Dezentrales Abluftreinigungssystem für die Halbleiterindustrie

Plasmastufe

Als dezentrales Abluftreinigungssystem speziell für die Halbleiterindustrie wurde eine Anlage, bestehend aus einer Hochtemperaturplasmastufe und einem nachgeschalteten Nasswäscher, entwickelt. Die Anlagen sind seit 2005 erfolgreich im Einsatz.

Kern der Anlage ist ein mit Wasserdampf als Plasmagas betriebener Plasmabrenner. Die Anlage arbeitet vollautomatisch.